Login| Sign Up| Help| Contact|

Patent Searching and Data


Title:
SILICON SUPPORTING DEVICE AND SILICON HEATING RAPIDLY COOLING APPARATUS UTILIZING THE SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/019749
Kind Code:
A1
Abstract:
A silicon supporting device that is free from deteriorating of the purity of raw material silicon and ensures easy maintenance; and a silicon heating rapidly cooling apparatus utilizing the same. Silicon supporting device (14) is constructed of multiple pipes (32) each provided with internal flow passage channel (34) for flow passage of cooling medium (L), these pipes arranged with given spacing therebetween, and includes silicon supporting section (22) for supporting raw material silicon (12); titanium-made contact preventive members (24) disposed in contact with the external surfaces of pipes (32) and interposed between the raw material silicon (12) and the pipes (32) to thereby prevent contact between the raw material silicon (12) and the pipes (32); and titanium-made fixing members (26) for fixing the contact preventive members (24) to the pipes (32).

Inventors:
MURAI TSUYOSHI (JP)
KONAKA TOSHINORI (JP)
Application Number:
PCT/JP2007/065278
Publication Date:
February 12, 2009
Filing Date:
August 03, 2007
Export Citation:
Click for automatic bibliography generation   Help
Assignee:
TEOSS CO LTD (JP)
MURAI TSUYOSHI (JP)
KONAKA TOSHINORI (JP)
International Classes:
C01B33/02; B02C19/18
Foreign References:
JP2005288332A2005-10-20
JP2005103529A2005-04-21
JP2005288332A2005-10-20
Other References:
See also references of EP 2062854A4
Attorney, Agent or Firm:
MORI, Yoshiaki (Osaka-Ekimae Dai-4 Bldg.11-4, Umeda 1-chome, Kita-k, Osaka-shi Osaka 01, JP)
Download PDF:
Claims:
 原料シリコンを支持した状態で加熱され、然る後、急冷されるシリコン支持装置であって、
 冷却媒体が通流する内部通流路が形成された複数のパイプを互いに所定の間隔をあけて配設することによって構成された、前記原料シリコンを支持するシリコン支持部、
 前記パイプの外面に接して配設され、前記原料シリコンと前記パイプとの間に介在して前記原料シリコンと前記パイプとが接触することを防止するチタン製の接触防止材、および
 前記接触防止材を前記パイプに固定するチタン製の固定部材を備えるシリコン支持装置。
 前記接触防止材は、チタン製のパイプを縦割りにして形成されており、
 前記固定部材は、帯状に形成されており、
 前記接触防止材は、前記パイプとともに固定部材で巻回されることにより固定されていることを特徴とする請求項1に記載のシリコン支持装置。
 前記接触防止材は、複数の前記パイプ上に敷設されており、前記接触防止材には、通水孔が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のシリコン支持装置。
 前記シリコン支持部の端部に配設され、前記原料シリコンと当接する当接部をさらに備えており、
 前記当接部は、当接部本体、および前記原料シリコンと前記当接部本体との間に介在して前記原料シリコンと前記当接部本体とが接触するのを防止するチタン製の当接部用接触防止材を有することを特徴とする請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載のシリコン支持装置。
 請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載のシリコン支持装置と、
 前記原料シリコンおよび前記シリコン支持装置を加熱する加熱装置と、
 前記原料シリコンおよび前記シリコン支持装置を水没させて急冷する水槽とを備えるシリコン加熱急冷装置。
Description:
シリコン支持装置およびこれを いたシリコン加熱急冷装置

 本発明は、半導体材料として用いられる リコンウエーハの原料となる原料シリコン 破砕を目的として、この原料シリコンを支 した状態で加熱装置において加熱され、当 加熱装置から取り出された後、原料シリコ を支持した状態で急冷されるシリコン支持 置およびシリコン加熱急冷装置に関する。

 半導体材料として用いられるシリコンウ ーハは、略円柱状に形成された単結晶シリ ンをその直径方向に所定の厚さで切断して 造される。この単結晶シリコンは、溶解し 原料シリコンに種結晶となる単結晶シリコ 片を浸漬し、然る後、ゆっくりと引き上げ がら結晶成長させることにより製造される なお、原料シリコンには、他の単結晶シリ ンから所定枚数のシリコンウエーハを切断 た残部のシリコンあるいはシーメンス法や ノシラン法によって製造された多結晶シリ ンが用いられる。

 原料シリコンの溶融は、原料シリコンを 英製のルツボに充填し、これを加熱するこ によって行われるが、原料シリコンの溶融 効率良く行うためには、原料シリコンをル ボに充填しやすい大きさまで破砕しなけれ ならない。

 原料シリコンの破砕は、従来、タングス ン製のハンマー等を用いて人力で行われて た。しかし、非常に硬い原料シリコンを人 で破砕するのは重労働であり、また、破砕 にハンマー等を形成するタングステンが原 シリコンの表面に付着して原料シリコンの 度を低下させるという問題があった。

 このような問題を解決するため、原料シ コンを高温に加熱し、然る後、急冷して、 料シリコンにクラックを生じさせるシリコ 加熱急冷装置が開発されている(特許文献1) 特許文献1のシリコン加熱急冷装置は、原料 シリコンを加熱する加熱炉と、加熱した原料 シリコン受け入れて冷却するための水を貯留 する水槽とで構成されている。加熱炉は、原 料シリコンを収容する炉本体を有しており、 この炉本体は、原料シリコンを出し入れする ために開閉できるようになっている。また、 炉本体の内部には、加熱用ヒータと、原料シ リコンを該炉本体内において支持するシリコ ン支持装置とが設けられている。このシリコ ン支持装置は、原料シリコンを支持するパイ プを備えており、当該パイプの表面は、チタ ンでコーティングされている。

 特許文献1のシリコン加熱急冷装置によれ ば、加熱炉で原料シリコンを加熱した後、加 熱炉の炉本体を開いて原料シリコンを支持し た状態のシリコン支持装置を加熱炉の外に突 き出し、原料シリコンを水槽に投入する。加 熱された原料シリコンを水槽内に投入すると 、原料シリコンは水槽に貯留された水によっ て急冷され、原料シリコンにクラックが生じ る。クラックが生じた原料シリコンは非常に 脆くなっており、軽い衝撃を与えるだけで容 易に破砕されることから、特許文献1のシリ ン加熱急冷装置を用いることにより原料シ コンを破砕するための労力を極小化するこ ができる。

 また、原料シリコンを支持するパイプはチ ンでコーティングされており、原料シリコ がチタンのコーティングと接触している限 、原料シリコンの純度が低下するおそれは い。すなわち、通常、チタンの表面には、 度が高く、かつ、化学的に安定した性質を している酸化チタンが形成されており、こ 酸化チタンが原料シリコンと接触しても、 料シリコンの表面にチタンが付着する可能 は低い。また、万一、酸化チタンが原料シ コンに付着しても、原料シリコンを化学的 エッチングすることで、付着した酸化チタ を容易に除去することができる。

特開2005-288332号公報

 ところが、特許文献1のシリコン支持装置 でも原料シリコンの純度が低下するという問 題は完全に解決されていなかった。すなわち 、特許文献1のシリコン支持装置が備えるパ プにチタンをコーティングするコーティン 工程において、当該コーティングにピンホ ルが生じるおそれがあった。また、特許文 1のシリコン支持装置が備えるパイプは、加 炉において約1000℃の雰囲気下で加熱される 一方で加熱炉の外に突き出されて冷却される ので、パイプが加熱と冷却とを交互に受ける ことにより、パイプとチタンコーティングと の間における熱延びの差に起因して、パイプ の表面からチタンのコーティングが剥がれ落 ちるおそれがあった。

 このように、コーティングにピンホール 生じたり、パイプの表面からコーティング 剥がれ落ちたりすると、原料シリコンとパ プとが直に接触して原料シリコンの表面に イプを形成するステンレスが付着し、原料 リコンの純度が低下するという問題があっ 。

 また、コーティングにピンホールが生じ り、パイプの表面からコーティングが剥が 落ちたりした場合、再度チタンのコーティ グ作業を行う必要があり、この作業を行う めには、シリコン支持装置を炉本体から取 外した後、チタンのコーティングを行うこ のできる工場などに搬送する必要があった このため、原料シリコンの破砕作業を長期 停止しなければならず、メンテナンスが困 という問題があった。

 本発明は、このような従来技術の問題に みて開発されたものである。それゆえに本 明の主たる課題は、原料シリコンの純度を 下させることがなく、かつ、メンテナンス 容易なシリコン支持装置およびこれを用い シリコン加熱急冷装置を提供することにあ 。

 請求の範囲第1項に記載のシリコン支持装 置14は、「原料シリコン12を支持した状態で 熱され、然る後、急冷されるシリコン支持 置14であって、冷却媒体Lが通流する内部通 路34が形成された複数のパイプ32を互いに所 の間隔をあけて配設することによって構成 れた、原料シリコン12を支持するシリコン 持部22、パイプ32の外面に接して配設され、 料シリコン12とパイプ32との間に介在して原 料シリコン12とパイプ32とが接触することを 止するチタン製の接触防止材24、および接触 防止材24をパイプ32に固定するチタン製の固 部材26を備える」シリコン支持装置14である

 本発明に係るシリコン支持装置14によれ 、チタン製の接触防止材24が原料シリコン12 パイプ32との間に介在し、原料シリコン12と パイプ32とが接触するのを防止している。ま 、このチタン製の接触防止材24は、固定部 26によってパイプ32に固定されている。した って、コーティングによってパイプ32にチ ンを取り付ける必要がなく、チタンのコー ィング工程におけるピンホールの発生を懸 する必要がない。また、シリコン支持装置14 が加熱と冷却とを交互に受けたときに生じる 、パイプ32と接触防止材24および固定部材26と の間における熱延びの差は、主に固定部材26 伸縮によって吸収される。このため、接触 止材24がパイプ32から剥がれ落ちるおそれが ない。

 また、万一、接触防止材24や固定部材26が 摩耗するなどの問題が生じても、問題のある 接触防止材24や固定部材26を交換するだけで く、シリコン支持装置14を工場などに搬送し て修理を行う必要がない。

 また、通常、チタンの表面には、硬度が く、かつ、化学的に安定した性質を有する 化チタンが形成されているが、チタンが約3 80℃以上に加熱されると、酸化チタンが接触 止材24および固定部材26の表面だけでなく、 接触防止材24および固定部材26の内部にまで 成されることにより、接触防止材24および固 定部材26が脆化する。しかし、本発明に係る リコン支持装置14によれば、パイプ32の内部 通流路34には、冷却媒体Lが通流されており、 パイプ32やパイプ32の外面に接して配設され 接触防止材24および固定部材26は冷却媒体Lに よって冷却される。このため、シリコン支持 装置14が原料シリコン12とともに約1000℃の加 装置16の中で加熱されても、接触防止材24お よび固定部材26が不所望に高温となって脆化 ることを回避できる。

 さらに、原料シリコン12を支持するシリ ン支持部22は、複数のパイプ32で構成されて るので、パイプ32の本数、あるいはパイプ32 同士の間隔を変更することにより、原料シリ コン12の大きさや形状に適したシリコン支持 22を構成することができる。

 請求の範囲第2項に記載のシリコン支持装 置14は、請求の範囲第1項に記載のシリコン支 持装置14に関し、「接触防止材24は、チタン のパイプを縦割りにして形成されており、 定部材26は、帯状に形成されており、接触防 止材24は、パイプ32とともに固定部材26で巻回 されることにより固定されている」ことを特 徴とする。

 本発明に係るシリコン支持装置14によれ 、固定部材26を巻き付けることにより、チタ ン製のパイプを縦割りにして形成された接触 防止材24がパイプ32に固定されているので、 触防止材24の着け外しを簡単に行うことがで きる。したがって、メンテナンスが容易なシ リコン支持装置14を提供することができる。

 請求の範囲第3項に記載のシリコン支持装 置14によれば、請求の範囲第1項に記載のシリ コン支持装置14に関し、「接触防止材24は、 数のパイプ32上に敷設されており、接触防止 材24には、通水孔60が設けられている」こと 特徴とする。

 本発明に係るシリコン支持装置14によれ 、接触防止材24は、複数のパイプ32上に敷設 れているので、接触防止材24が個々のパイ 32に対して別々に取り付けられている場合に 比べ、少ない手間でシリコン支持部22に取り けられた接触防止材24の脱着を行うことが きる。したがって、さらにメンテナンスが 易なシリコン支持装置14を提供することがで きる。

 また、原料シリコン12を支持した状態で リコン支持装置14を水没させて原料シリコン 12を急冷し、その後、原料シリコン12を水中 ら取り出す場合、接触防止材24に設けられた 通水孔60を水槽18内の水が通流するので、シ コン支持装置14を水槽18内に水没させやすい ともに、シリコン支持装置14を水中から取 出す際の水切りがよい。

 請求の範囲第4項に記載のシリコン支持装 置14は、請求の範囲第1項ないし第3項のいず かに記載のシリコン支持装置14に関し、「シ リコン支持部22の端部に配設され、原料シリ ン12と当接する当接部28をさらに備えており 、当接部28は、当接部本体35、および原料シ コン12と当接部本体35との間に介在して原料 リコン12と当接部本体35とが接触するのを防 止するチタン製の当接部用接触防止材36を有 る」ことを特徴とする。

 本発明に係るシリコン支持装置14によれ 、シリコン支持部22の端部に原料シリコン12 当接する当接部28が配設されている。この め、万一、原料シリコン12がシリコン支持部 22の上をパイプ32の軸方向に移動しても、原 シリコン12は、パイプ32の端部で当接部28に 接し、それ以上移動しない。したがって、 料シリコン12がシリコン支持装置14から転落 ることを防止できる。

 また、チタン製の当接部用接触防止材36 原料シリコン12と当接部本体35との間に介在 て原料シリコン12と当接部本体35とが接触す ることを防止するので、原料シリコン12の表 に異物が付着して原料シリコン12の純度が 下するおそれがない。

 請求の範囲第5項に記載の発明は、「請求 の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の リコン支持装置14と、原料シリコン12および シリコン支持装置14を加熱する加熱装置16と 原料シリコン12およびシリコン支持装置14を 没させて急冷する水槽18とを備える」シリ ン加熱急冷装置である。

 本発明によれば、ピンホールの発生を懸 する必要がなく、また、接触防止材がパイ から剥がれ落ちるおそれがないことから、 料シリコンの表面に異物が付着して原料シ コンの純度が低下するおそれがなく、さら 、メンテナンスが容易なシリコン支持装置 よびこれを用いたシリコン加熱急冷装置を 供することができる。

本発明にかかるシリコン加熱急冷装置 示す(a)正面図および(b)右側面図である。 本発明にかかるシリコン支持装置の第1 実施例を示す(a)正面図および(b)平面図である 。 固定部材を用いてパイプに接触防止材 固定した状態を示す斜視図である。 固定部材を用いてパイプに接触防止材 固定する方法を示す図である。 図2(a)におけるV部分の拡大断面図であ 。 図2(a)におけるVI-VI線矢印方向からみた である。 図2(a)におけるVII-VII線矢印方向からみ 図である。 原料シリコンの加熱冷却方法を示す図 ある。 (a)固定部材の変形例および(b)第1実施例 の固定部材について説明する図である。 固定部材の変形例について説明する図 である。 本発明にかかるシリコン支持装置の第 2実施例を示す(a)正面図および(b)平面図であ 。 固定部材を用いて、第2実施例に係る 触防止材をパイプに固定する方法を示す断 図である。

符号の説明

 10…シリコン加熱急冷装置
 12…原料シリコン
 14…シリコン支持装置
 16…加熱装置
 18…水槽
 20…クレーン
 22…シリコン支持部
 24…接触防止材
 26…固定部材
 28…当接部
 30…軸部
 32…パイプ
 34…(パイプ32の)内部通流路
 35…当接部本体
 36…当接部用接触防止材
 37…(当接部本体35の)内部通流路
 38…パイプ連通孔
 40…軸部連通孔
 42…(軸部30の)内部通流路
 44…切り欠き
 46…孔
 47…ネジ
 48…当接部連通孔
 50…冷却媒体給排出孔
 52…フック
 54…貫通孔
 56…ワイヤー掛け部
 58…ヒータ
 59…ホース
 60…通水孔
 62…固定部材貫通孔

(第1の実施例)
 以下、本発明が適用されたシリコン加熱急 装置10について説明する。本実施例に係る リコン加熱急冷装置10は、原料シリコン12に ラックを生じさせることを目的として、原 シリコン12を高温に加熱した後、当該原料 リコン12を水没させて急冷する装置であり、 図1に示すように、大略、シリコン支持装置14 と加熱装置16と水槽18とシリコン支持装置14を 吊り上げるクレーン20とを備えている。

 シリコン支持装置14は、原料シリコン12を 支持し、原料シリコン12を支持した状態で加 装置16において加熱され、加熱された後に 熱装置16から取り出され、さらに原料シリコ ン12を支持した状態で水槽18の中に水没され 装置であり、図2に示すように、大略、シリ ン支持部22、接触防止材24、固定部材26、当 部28および軸部30で構成されている。

 シリコン支持部22は、原料シリコン12を支 持する部材であって、互いに間隔をあけて平 行に配設された複数のパイプ32で構成されて る。

 パイプ32は、ステンレス鋼で形成されて り、その内部には、図3に示すように、パイ 32を冷却するための冷却媒体Lが通流する内 通流路34が形成されている。なお、冷却媒 Lの通流路については、後ほど説明する。

 また、本実施例に係るシリコン支持部22 は、図2に示すように、パイプ32同士の間隔 所定の長さに保持するための保持部材Hがパ プ32の軸方向に直交する向きに所定の数(本 施例では、4箇所)配設されている。なお、 持部材Hは、パイプ32の下面に溶接止めされ いる。

 接触防止材24は、シリコン支持部22に原料 シリコン12を載置したとき、原料シリコン12 パイプ32とが直接に接触することを防止する 部材であり、高純度のチタン製のパイプを半 分に縦割りして(つまり、パイプの中心を通 面で当該パイプの軸方向に切断して)形成さ ている。また、接触防止材24の内径は、パ プ32の外径と略等しくなるように設定されて おり、接触防止材24の内面とパイプ32の外面 は、互いに面で接触している。さらに、接 防止材24は、パイプ32の全長に略等しい長さ 形成されており、1本のパイプ32に対して1本 の接触防止材が固定されている。また、本実 施例における接触防止材24の厚さは、0.5mmで る。なお、運搬や取扱いを容易にするため 接触防止材24の長さをパイプ32の長さに比べ 短く形成し、複数の接触防止材24をその長 方向に連続して隙間なく並べることにより パイプ32の全長をカバーしてもよい。

 固定部材26は、接触防止材24をパイプ32に 定するために用いられる高純度のチタン製 帯状部材であり、パイプ32の外周長よりも や長く形成されている。また、1つの接触防 材24をパイプ32に固定するため、複数の固定 部材26がそれぞれ所定の間隔をあけて配設さ ている。

 ここで、本実施例における接触防止材24 固定方法について、図4を用いて詳述する。 ず、パイプ32と接触防止材24と固定部材26と 準備し(図4(a))、原料シリコン12が当接する 置において接触防止材24をパイプ32の外面に り付け、接触防止材24の外面に固定部材26を 配設する(図4(b))。然る後、固定部材26を接触 止材24およびパイプ32に巻き付けて、接触防 止材24をパイプ32に固定する。このとき、固 部材26は、パイプ32の外周長よりもやや長く 成されているので、固定部材26の両端部26a 26bには、若干の余りが生じている。そこで 固定部材26の一方端部26aを折り返して固定部 材26の他方端部26bを挟み込む(図4(c))。然る後 固定部材26の一方端部26aと他方端部26bとを 体としてパイプ32の外面に沿って折り返す。 以上より、固定部材26による接触防止材24の イプ32への固定が完了する(図4(d))。

 当接部28は、図2に示すように、シリコン 持部22の端部に配設され、原料シリコン12と 当接する部材であり、当接部本体35と当接部 接触防止材36とで構成されている。また、 実施例では、一対の当接部28が互いに対向す るようにしてシリコン支持部22の両端部に配 されている。

 当接部本体35は、パイプの軸方向に対し 直交する方向に延びる略三角形状の板材で り、当接部本体35の内部には、図5に示すよ に、冷却媒体Lが通流する内部通流路37が設 られている。さらに、この内部通流路37は、 当接部本体35の下端部に形成されたパイプ連 孔38を介してパイプ32の内部通流路34に連通 れているとともに、当接部本体35の上端部 形成された軸部連通孔40を介して軸部30の内 通流路42(後述)に連通されている。すなわち 、パイプ32は、当接部本体35の下端部に接続 れており、軸部30は、当接部本体35の上端部 接続されている。

 当接部用接触防止材36は、原料シリコン12 と当接部本体35との間に介在して原料シリコ 12と当接部本体35とが接触することを防止す るチタン製の板状部材であり、図2に示すよ に、2つの当接部本体35同士が対向する面に れぞれ取り付けられている。以下、当接部 体35における、当接部用接触防止材36が取り けられた面を当接部本体35の「内面」とよ 、軸部30が取り付けられた面を当接部本体35 「外面」とよぶ。

 当接部用接触防止材36は、図6に示すよう 、当接部本体35の内面と略同一の形状を有 ており、当接部本体35の内面に接続されたパ イプ32と干渉しないように、パイプ32の接続 置に対応する位置に切り欠き44が設けられて いる。また、当接部用接触防止材36には、当 部本体35の内面に設けられたネジ孔(図示せ )に対応する位置に孔46が設けられており、 接部用接触防止材36は、孔46を貫通してネジ 孔に螺合されたチタン製のネジ47によって当 部本体35の内面に密接するように取り付け れている。

 軸部30は、当接部28を構成する当接部本体 35の外面に取り付けられている円柱状部材で り、図5に示すように、内部に内部通流路42 有する。また、軸部30には、軸部30の一方端 面(図5における左側端面)を貫通して内部通流 路42と当接部本体35の内部通流路37とを連通す る当接部連通孔48と、軸部30の他方端部にお て軸部30の外周面を貫通して内部通流路42に 通する冷却媒体給排出孔50とが設けられて る。軸部30は、軸部30に設けられた当接部連 孔48と、当接部本体35に設けられた軸部連通 孔40とが互いに連通するようにして、当接部 体35の上端部に接続されている。すなわち 一方の軸部30における冷却媒体給排出孔50は 軸部30の内部通流路42、一方の当接部本体35 内部通流路37、パイプ32の内部通流路34、他 の当接部本体35の内部通流路37および他方の 軸部30の内部通流路42を介して他方の軸部30の 冷却媒体給排出孔50に連通している。

 また、軸部30には、シリコン支持装置14を 吊り上げるためのフック52が取り付けられて る。フック52は、軸部30に対して直交する方 向に延びる略長方形状の板材であり、フック 52の中央部には、図7に示すように、軸部30が 通する貫通孔54が設けられている。また、 通孔54を挟んだ上下位置には、シリコン支持 装置14を吊り上げる際にクレーン20のワイヤ が掛けられるワイヤー掛け部56がそれぞれ形 成されている。また、フック52は、軸部30の 手方向に対する略中央において、溶接など 手段によって軸部30に固着されている。

 加熱装置16は、図1に示すように、その内 に原料シリコン12と原料シリコン12を支持し た状態のシリコン支持装置14とを収容し、大 圧下で加熱する装置であり、加熱装置16の 部には、所定の温度まで原料シリコン12を加 熱するヒータ58が設けられている。また、加 装置16は、原料シリコン12およびシリコン支 持装置14を収容あるいは取り出す際に加熱装 16を開閉する開閉装置(図示せず)を備えてい る。加熱装置16の停止中あるいは加熱中にお て、加熱装置16は閉じた状態になっており 原料シリコン12およびシリコン支持装置14を 容しあるいは取り出すとき、加熱装置16は いた状態になる。

 水槽18は、原料シリコン12を急冷するため の水を貯留するものであり、原料シリコン12 支持した状態のシリコン支持装置14を水没 せることができる大きさに形成されている なお、本実施例では、原料シリコン12を急冷 するための水として、超純水が使用されてい る。

 クレーン20は、吊り下げたシリコン支持 置14を加熱装置16から水槽18まで移動させる ともに、所定の位置および高さでシリコン 持装置14を保持するものである。

 本実施例に係るシリコン加熱急冷装置10 用いて原料シリコン12を加熱し、冷却する手 順について、図8を用いて説明する。

 加熱装置16の電源スイッチ(図示せず)をオ ンにして加熱装置16のヒータ58に給電し、加 装置16の内部温度を大気圧下で約1,000℃まで 温させる。

 また、シリコン支持装置14における一方 軸部30に形成された冷却媒体給排出孔50およ 他方の軸部30に形成された冷却媒体給排出 50にそれぞれホース59を接続し、一方の軸部3 0の冷却媒体給排出孔50から、該軸部30に冷却 体Lを供給する。

 冷却媒体Lの供給量は、シリコン支持装置 14を加熱装置16内で加熱する際、接触防止材24 、固定部材26および当接部用接触防止材36の 度を380℃以下に維持できるように設定され 。特に、本実施例では、固定部材26が巻回さ れている位置と固定部材26が巻回されていな 位置との間において、接触防止材24の温度 差が生じることから、冷却媒体Lの供給量を 定する際には、固定部材26が巻回されてい い位置における接触防止材24の温度が380℃以 下になるようにする必要がある。すなわち、 固定部材26が巻回されている位置では、パイ 32と接触防止材24とが密接していることから 、接触防止材24がパイプ32を介して冷却媒体L らの冷却効果を受ける度合いが高い。しか 、固定部材26が巻回されていない位置では 接触防止材24とパイプ32との接触が弱く、当 位置における接触防止材24がパイプ32を介し て冷却媒体Lからの冷却効果を受ける度合い 低い。

 軸部30の内部通流路42に供給された冷却媒 体Lは、一方の当接部本体35、パイプ32および 方の当接部本体35を経由して他方の軸部30に 設けられた冷却媒体給排出孔50から排出され 。

 加熱装置16内の昇温が完了したことを確 し、開閉装置により加熱装置16を開いた状態 にする。そして、クレーン20を用いて原料シ コン12を支持した状態のシリコン支持装置14 を加熱装置16内に収容し、加熱装置16を閉じ 。然る後、昇温された加熱装置16内で原料シ リコン12を約600℃まで加熱する(図8(a))。

 このとき、シリコン支持装置14も同様に 熱されるが、シリコン支持装置14を構成する パイプ32、当接部本体35および軸部30の内部に は、冷却媒体Lが通流されているので、これ の温度が不所望に高くなることはない。ま 、パイプ32に面で接するように固定された接 触防止材24および固定部材26もパイプ32を介し て冷却媒体Lからの冷却作用を受けるので、 触防止材24および固定部材26が不所望に高温 なって脆化することを回避できる。さらに 当接部本体35に密接する当接部用接触防止 36も当接部本体35を介して冷却媒体Lからの冷 却作用を受けるので、当接部用接触防止材36 不所望に高温となって脆化することを回避 きる。

 原料シリコン12の加熱を完了した後、加 装置16を開いた状態にして原料シリコン12お びシリコン支持装置14を取り出し、すぐに 料シリコン12を支持した状態のシリコン支持 装置14を水槽18に貯留した超純水に水没させ (図8(b))。すると、水槽18に貯留された超純水 によって急冷された原料シリコン12にクラッ が生じる。なお、シリコン支持装置14を構 するパイプ32などの冷却媒体Lによる冷却作 を受ける部材は、原料シリコン12ほど高温に なっていないので、水槽18に貯留された超純 によって冷却されてもクラックや破損が発 することはない。

 水槽18内の水で原料シリコン12を十分に冷 却した後、原料シリコン12を水槽18から引き げ、原料シリコン12を床に降ろしてシリコン 加熱急冷装置10による原料シリコン12の加熱 よび急冷が終了する(図8(c))。なお、クラッ が生じた原料シリコン12は、非常に脆くなっ ており、軽い衝撃を与えるだけで容易に破砕 することができる。

 本実施例に係るシリコン支持装置14によ ば、チタン製の接触防止材24が原料シリコン 12とパイプ32との間に介在し、原料シリコン12 とパイプ32とが接触するのを防止しており、 た、この接触防止材24は、固定部材26によっ てパイプ32に固定されている。このため、コ ティングによってパイプ32にチタンを取り ける必要がなくなり、コーティング工程に けるピンホールの発生を懸念する必要がな 。また、シリコン支持装置14が加熱と冷却と を交互に受けたときに生じる、パイプ32と接 防止材24および固定部材26との間における延 びの違いは、主に固定部材26の伸縮によって 収される。このため、接触防止材24がパイ 32から剥がれ落ちるおそれがない。

 また、万一、接触防止材24や固定部材26が 摩耗するなどの問題が生じても、問題のある 接触防止材24や固定部材26を交換するだけで く、シリコン支持装置14を工場などに搬送し て修理を行う必要がない。

 したがって、本実施例によれば、ピンホ ルの発生を懸念する必要がなく、また、接 防止材24がパイプ32から剥がれ落ちるおそれ がないことから、原料シリコン12の表面に異 が付着して原料シリコン12の純度が低下す おそれがなく、さらに、メンテナンスが容 なシリコン支持装置14およびこれを用いたシ リコン加熱急冷装置10を提供することができ 。

 また、固定部材26を巻き付けることによ て接触防止材24がパイプ32に固定されている で、接触防止材24の着け外しを簡単に行う とができる。したがって、メンテナンスが 易なシリコン支持装置14を提供することがで きる。

 また、接触防止材24は、パイプを縦割り して形成されているので、加熱装置16に収容 されて熱を受けた接触防止材24は板状に広が うとする。ここで、本実施例では、固定部 26が接触防止材24に巻回されているので、固 定部材26は、接触防止材24が広がろうとする を常に受けることになる。このため、振動 どによって固定部材26が緩むのを防止できる 。

 また、通常、チタンの表面には、硬度が く、かつ、化学的に安定した性質を有する 化チタンが形成されているが、チタンが約3 80℃以上に加熱されると、酸化チタンが接触 止材24および固定部材26の表面だけでなくこ れらの内部にまで形成され、接触防止材24お び固定部材26が脆化する。しかし、本実施 に係るシリコン支持装置14によれば、パイプ 32の内部通流路34には、冷却媒体Lが通流され おり、パイプ32やパイプ32の外面に接して配 設された接触防止材24および固定部材26は冷 媒体Lによって冷却される。また、当接部本 35に密接する当接部用接触防止材36も当接部 本体35を介して冷却媒体Lからの冷却作用を受 けるので、当接部用接触防止材36の表面温度 不所望に上昇することはない。このため、 リコン支持装置14が原料シリコン12とともに 1000℃の加熱装置16の中で加熱されても、接触 防止材24および固定部材26が不所望に高温と って脆化するのを回避することができる。

 さらに、原料シリコン12を支持するシリ ン支持部22は、複数のパイプ32で構成されて るので、パイプ32の本数、あるいはパイプ32 同士の間隔を変更することにより、原料シリ コン12の大きさや形状に適したシリコン支持 22を構成することができる。

 また、シリコン支持部22の端部に原料シ コン12と当接する当接部28が配設されており 万一、原料シリコン12がシリコン支持部22の 上をパイプ32の軸方向に移動しても、原料シ コン12は、シリコン支持部22の端部で当接部 28に当接し、それ以上移動しない。したがっ 、原料シリコン12がシリコン支持装置14から 転落することを防止できる。

 また、チタン製の当接部用接触防止材36 原料シリコン12と当接部本体35との間に介在 て原料シリコン12と当接部本体35とが接触す ることを防止するので、原料シリコン12の表 に異物が付着して原料シリコン12の純度が 下するおそれがない。

 なお、本実施例では、パイプ32にステン ス鋼が用いられているが、パイプ32の材料は ステンレス鋼に限られず、他の材料を使用す ることができる。

 また、接触防止材24は、パイプ32の外面に 接して配設され、原料シリコン12とパイプ32 の間に介在して原料シリコン12とパイプ32と 接触することを防止するチタン製の部材で れば、図9(a)に示すように、断面形状が扇形 になるように形成してもよい。ただし、原料 シリコン12の形状が図9(a)および図9(b)に示す うな楔状である場合、楔状の原料シリコン12 の先端部がパイプ32に接触するおそれがある したがって、接触防止材24の形状としては 本実施例のように、パイプを半分に縦割り た形状が好適である(図9(b))。

 また、固定部材26の形状も帯状部材に限 れず、他の形状を有するものであってもよ 、例えば、図10に示すように、接触防止材24 固定部材26とを一体的に形成してもよい。

 また、本実施例では、原料シリコン12を 冷するため、シリコン支持装置14に支持され た状態で原料シリコン12を水槽18中に水没さ ているが、原料シリコン12を急冷する方法は 、これに限られるものではなく、例えば、液 体窒素などの低温媒体を加熱された原料シリ コン12に吹き付けることによって原料シリコ 12を急冷してもよい。

(第2の実施例)
 次に、本発明に係る第2の実施例について、 図11に基づいて説明する。第2の実施例は、上 述した第1の実施例と比較して、個々のパイ 32に別々の接触防止材24が取り付けられてい のではなく、一枚の接触防止材24がシリコ 支持部22に取り付けられている点が異なって いる。そこで、以下ではこの接触防止材24に 係する事項についてのみ説明し、第2の実施 例に係る他の部分についての構成および作用 効果については、第1の実施例における記載 援用することとする。

 本実施例の接触防止材24は、複数のパイ 32全体で構成される仮想曲面に沿うように湾 曲され、多数の通水孔60を有するチタン製の 状部材(パンチングメタル)であり、複数の イプ32で構成されたシリコン支持部22の上側( すなわち、原料シリコン12を支持する側)にお いて複数のパイプ32上に敷設された後、固定 材26によりパイプ32に固定されている。また 、接触防止材24には、図12に示すように、帯 の固定部材26を貫通させるための固定部材貫 通孔62が2つ一組で設けられている。

 固定部材26による接触防止材24の固定方法 について、図12を用いて具体的に説明する。 ず、パイプ32と接触防止材24と固定部材26と 準備し(図12(a))、接触防止材24を複数のパイ 32上に敷設し、然る後、シリコン支持部22の 上方から固定部材26の両端26a、26bを接触防止 24に設けられた固定部材貫通孔62に貫通させ 、接触防止材24の外面に当接するように固定 材26を配設する(図12(b))。

 そして、固定部材26をパイプ32に巻回して 接触防止材24をパイプ32に固定するが、この き、固定部材26は、パイプ32の外周長よりも や長く形成されているので、固定部材26の 端部26a、26bには、若干の余りが生じている そこで、固定部材26の一方端部26aを折り返し て固定部材26の他方端部26bを挟み込む(図12(c)) 。然る後、固定部材26の一方端部26aと他方端 26bとを一体としてパイプ32の外面に沿って り返す。以上より、固定部材26による接触防 止材24のパイプ32への固定が完了する(図12(d))

 本実施例によれば、接触防止材24は、複 のパイプ32上に敷設されており、接触防止材 24が個々のパイプ32に対して別々に取り付け れている場合に比べ、少ない手間でシリコ 支持部22全体に取り付けられた接触防止材24 脱着を行うことができる。したがって、メ テナンスが容易なシリコン支持装置14を提 することができる。

 また、原料シリコン12を支持した状態で リコン支持装置14を水没させて原料シリコン 12を急冷し、その後、原料シリコン12を水中 ら取り出す際、接触防止材24に設けられた通 水孔60を水槽18内の水が通流するので、シリ ン支持装置14を水槽18内に水没させやすいと もに、シリコン支持装置14を水中から取り す際の水切りがよい。

 なお、本実施例の接触防止材24は、その 面に通水孔60が設けられているが、シリコン 支持装置14を水没させ易く、かつ、その後に り出し際の水切りがよいものであれば、通 孔60を設ける位置は、これに限られるもの はない。たとえば、1のパイプ32と当該パイ 32に隣りあう他のパイプ32との隙間に対応す 位置においてのみ、通水孔60を設けてもよ 。これによれば、パイプ32に対応する位置に 通水孔60がないことから、パイプを半分に縦 りすることによって接触防止材24を形成し 場合のように、原料シリコン12がパイプ32と 触するおそれを極小化することができる。

 また、通水孔60の大きさは、原料シリコ 12がシリコン支持装置14から脱落しないよう 、原料シリコン12の大きさ(例えば、直径300m m、長さ1000mm)よりも小さく形成されているこ はいうまでもなく、通水孔60を破砕後の原 シリコン12の大きさ(例えば、15mm角程度)より も小さく形成することが好適である。加熱し た原料シリコン12を水槽18内に水没させたと に小片の原料シリコン12が分離したとき、こ の小片の原料シリコン12がシリコン支持装置1 4から脱落するのを防止できるからである。

 また、接触防止材24の形状についても、 曲して形成された板状の部材には限られず 波板状の部材であってもよい。

 さらに、接触防止材24は、本実施例のよ なパンチングメタルに限られず、例えばチ ンの線材で形成された網を用いることもで る。この網の目は、シリコン支持部22が支持 する原料シリコン12の大きさよりも小さく形 される必要があることはいうまでもない。

 また、本実施例では、シリコン支持部22 全面を覆う大きさの接触防止材24が使用され ているが、原料シリコン12とパイプ32とが接 することを防止できるのであれば、これに られず、必要な範囲のみを覆う、より面積 小さい接触防止材24を使用することができる 。