本発明で使用する触媒1とは、タングステン 、モリブデン、レニウムから選ばれた金属元 素を少なくとも1種以上含むものである。タ� �グステン、モリブデン、レニウムの構造に� �限はなく、例えば酸化物、硫化物、水酸化� �等を使用できるが、中でも、WO ₃ 、MoO ₃ 、Re ₂ O ₇ 等の酸化物が好ましく、さらにはWO ₃ が好ましい。また、これらの酸化物、硫化物 、水酸化物等を担体とよばれる無機化合物に 担持して使用することもできる。担体の種類 についても制限はなく、例えば、シリカ、ア ルミナ、チタニアなどを使用することができ 、中でもシリカが好ましく使用される。担持 方法は、当業者の間で公知の方法を用いるこ とができるが、本発明を制限するものではな い。担体に対する金属元素の担持量は、酸化 物換算で、0.01重量%~50重量%の範囲であれば良 く、さらに好ましくは0.1重量%~20重量%の範囲� ��ある。

 本発明で使用する触媒2とは、酸化マグネシ ウム、ハイドロタルサイト焼成体から選ばれ 、少なくともそのうち1種以上を含むもので� �る。本発明におけるハイドロタルサイト焼� �体とは、以下に示す式1で表される、マグネ� ��ウムとアルミニウムの層状複水酸化物であ� ��ハイドロタルサイトを、300℃以上で焼成す� ��ことによって得られるMgO・Al ₂ O ₃ 固溶体を指す。

 但し、Aはアニオンの種類、nはアニオンA� ��価数であり、xは通常0.20~0.33の範囲である。 mは、脱水の程度により大きく異なるが、通� �は0~4程度の整数を表す。 

 アニオンの種類として、例えば炭酸イオ� ��、硫酸イオン、水酸化物イオン、フッ化物� ��オン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ� ��物イオンなどが挙げられる。

 酸化マグネシウム、ハイドロタルサイト� ��構造は単体でもよいし、もしくはこれらの� ��化物を担体とよばれる無機化合物に担持し� ��ものでもよい。単体を得るには当業者の間� ��公知の方法、例えば水酸化物、炭酸塩など� ��高温で分解する方法を用いることができ、� ��持方法についても、当業者の間で公知の方� ��を用いることができるが、いずれの方法も� ��発明を制限するものではない。担体の種類� ��ついても制限はなく、例えば、シリカ、ア� ��ミナ、チタニアなどを使用することができ� ��。この中でもシリカが好ましく使用される� ��

 触媒1および触媒2とも、その形状に制限� �なく、またその大きさも反応器の大きさに� �じて選定すればよい。また、触媒を成型す� �方法も、当業者の間で公知の方法を用いる� �とができるが、本発明を制限するものでは� �い。

 触媒1と触媒2は物理混合されてもよいし� �1つの担体上に触媒1と触媒2が担持されても� �い。全触媒中に占める触媒1と触媒2の構成比 率について特に制限されないが、触媒2の重� �が全触媒重量に対し50%以上である触媒が、� �タセシス反応を効率的に進行させる。

 本発明におけるメタセシス反応の原料と� ��るオレフィンとして、炭素数が2~10の鎖状あ るいは環状のオレフィンを使用できる。例え ば、エチレンとブテンからのプロピレンの合 成や、ブテンとペンテンからのヘキセンの合 成などが挙げられる。また、原料オレフィン がメタン、エタン、プロパン、ブタンおよび ヘキサンといったパラフィンや水素を含有し ていても構わない。水素の共存により、メタ セシス反応は著しく促進される。

 メタセシス反応の温度、圧力は通常25~500℃� ��0.1~20MPaGの範囲であり、好ましくは100~400℃� �0.1~10MPaGの範囲である。また、使用する触媒� ��量についても特に制限されないが、例えば� ��固定床流通装置を用いて反応を行う場合、� ��位時間あたりの原料供給量(重量)を触媒重� �で割った値、即ちWHSVで示すと、1~500h ^-1 の範囲であることが好ましく、さらに好まし くは1~250h ^-1 の範囲である。

 メタセシス反応の反応形式についても制� ��されないが、特に気相流通式反応が好まし� ��。触媒の充填方式としては、固定床、流動� ��、懸濁床等種々の方式が採用され、いずれ� ��方式で実施してもよい。

  本願の再活性化工程は、通常の再生工� �の前もしくは後で実施され、より好ましく� �通常の再生工程の後で実施される。

 メタセシス反応における通常の再生処理� ��は、酸素を含むガスを高温で流通させるこ� ��により、被毒物質もしくはコークを触媒か� ��燃焼除去する。その方法は当業者の間で公� ��の方法を用いることができるが、いずれの� ��法も本発明を制限するものではない。

 また、再活性化工程終了後についても通� ��と同様、一酸化炭素や水素といった還元性� ��スを用いて還元処理を行った後にメタセシ� ��反応を開始することが望ましく、その方法� ��当業者の間で公知の方法を用いることがで� ��るが、いずれの方法も本発明を制限するも� ��ではない。

 本発明の方法で使用する50℃以下の水と� �、液相の水であり、その接触方法は触媒1お� ��び触媒2を水中に浸漬させる方法、触媒1お� �び触媒2に水を流通させる方法のいずれも使� ��することができる。水の温度は0~50℃が好ま しく、さらには20~40℃が好ましい。水の温度� ��50℃を超えると触媒の再活性化を十分に行� �ことが出来ない。圧力は特に制限されない� �、処理上の簡便性から室温で常圧が好まし� �。

 50℃以下の水との接触に要する時間は特� �制限されないが、好ましくは30分~1週間、さ� ��に好ましくは1時間~24時間である。接触後は 、水分を十分に除去するために乾燥および焼 成を実施することが好ましい。乾燥は、通常 100~300℃、1~120時間の範囲で行い、特に、100℃ ~200℃、1~24時間の範囲で行うことが好ましい� ��焼成は、通常350~700℃、1~120時間の範囲で行� ��、特に400~600℃、1~24時間の範囲で行うこと� �好ましい。乾燥雰囲気および焼成雰囲気に� �いて特に限定されることはなく、たとえば� �空排気、不活性ガス流通、空気や水素ガス� �通の下で実施される。

 本発明の方法で使用する170℃以下の水蒸� ��とは、触媒1および触媒2と接触させるため� �用いる気相の水であり、その接触方法は、� �えば触媒1および触媒2を水蒸気中に静止する 、あるいは触媒1および触媒2に水蒸気を連続� ��に流通させる方法を使用することができる� ��水蒸気の温度は100~170℃が好ましく、さらに は110~160℃が好ましい。水蒸気の温度が170℃� �超えると触媒の再活性化を十分に行うこと� �出来ない。圧力は特に制限されないが、処� �温度での水の飽和蒸気圧に近いほど、触媒� �速やかに再活性化される。

 170℃以下の水蒸気との接触に要する時間� ��特に制限されないが、好ましくは30分~1週間 、さらに好ましくは1時間~24時間である。接� �後は、水分を十分に除去するために乾燥お� �び焼成を実施することが好ましい。乾燥は� �通常100~300℃、1~120時間の範囲で行い、特に� �100℃~200℃、1~24時間の範囲で行うことが好ま しい。焼成は、通常350~700℃、1~120時間の範囲 で行い、特に400~600℃、1~24時間の範囲で行う� ��とが好ましい。乾燥雰囲気および焼成雰囲� ��について特に限定されることはなく、たと� ��ば真空排気、不活性ガス流通、空気や水素� ��ス流通の下で実施される。しかしながら、� ��記の接触方法、乾燥、焼成方法は本発明を� ��限するものではない。

  本発明の方法は、上記触媒をメタセシ� �反応器内で再活性化処理できる点で有用で� �る。すなわち触媒の再活性化は、反応器か� �触媒を抜き出して、別に用意した再活性化� �理用容器に入れて行ってもよいし、反応器� �水または水蒸気を供給する配管等を設置す� �ことにより、反応器から触媒を抜き出さず� �、触媒を充填した状態で行ってもよいが、� �応/触媒再活性化切り替えの操作性の点から� ��、後者のように反応器内で行うことが好ま� ��い。