以下、本発明の実施例1について、図面を 参照して説明する。

 図1ないし図3は、本実施例1に係るゲート� ��ルブ1の構造を示しており、図1はゲートバ� �ブ1の分解斜視図であり、図2はゲートバルブ 1の縦断面図であり、図3は、弁箱の一部を切� ��欠いた状態の分解斜視図である。

 このゲートバルブ1は、内部が後述する弁 板5のスライド空間2a(図3参照)に形成された略 箱形状の弁箱2と、サイド板3と、弁箱2の一側 面(図3では左側の側面)に形成された、スライ ド空間2aの開口部2bを覆う蓋部材4と、図示し� ��いエアシリンダの駆動軸(シリンダロッド)6� ��支持された略板形状の弁体5とから構成され ている。なお、図1では、サイド板3を弁箱2に 既に装着した状態で示している。

 弁箱2のサイド板3が装着される一方の側� �8aと他方の側壁8bとの間には、略矩形状に形� ��されたゲート開口部9aが貫通して形成され� �おり、サイド板3にも、略矩形状に形成され� ��ゲート開口部9bが貫通して形成されている� �すなわち、ゲート開口部9a,9bが、スライド空 間2aを貫通するように形成されている。

 また、弁箱2のスライド空間2aの左右の内� ��面には、ゲート開口部9a,9bを左右から挟む� �うな位置関係で、右シール座面11と左シール 座面16とがそれぞれ形成されている。各シー� ��座面11,16は、図1に示すゲートバルブ1を正面 側から見たときに、左右対称の台形形状に形 成されており、全体として六角形状に形成さ れている。これらのシール座面11,16は、接続� ��である上部位置(垂直方向上部位置)及び下� �位置(垂直方向下部位置)において段違いに形 成されているが、その段違い部15,15を含めて� ��全体が厚み方向に段差を有する六角形の環� ��状となるように、連続して形成されている� ��これにより、弁箱2の内壁面には、右シール 座面11から段違い部15を経て左シール座面16に 至るまでの連続した六角形状のシール座面が 形成されている。

 一方、弁体5は、略正方形状の本体部51の� ��側端面52に、スライド方向(図1及び図3中、� �符X1方向)に延設するようにして台形形状の� �側弁体部53が形成されている。この右側弁体 部53は、本体部51の半分の厚みに形成されて� �る。すなわち、右側端面52の手前側半分に形 成されている。一方、右側端面52の奥側半分� ��は、右側弁体部53と対称な台形形状の切欠� �部55が形成されており、この切欠き部55によ� ��て囲まれた本体部51の切欠き部分が、台形� �状の左側弁体部56となっている。すなわち、 右側弁体部53と左側弁体部56は、図1に示すゲ� ��トバルブ1を正面側から見たときに、左右対 称の台形形状に形成されており、全体として シール座面11,16に合致する六角形状に形成さ� ��ている。すなわち、右側弁体部53の周端面(� ��下、「右シール面」という。)53a及び左側弁 体部56の周端面(以下、「左シール面」という 。)56aは、接続部である上部位置及び下部位� �において段違いに形成されているが、その� �違い部57,57を含めて、全体が厚み方向に段差 を有する六角形の環形状となるように、連続 して形成されている。

 また、右側弁体部53の右シール面53a及び� �側弁体部56の左シール面56aには、シール部材 13が装着されている。シール部材13は、図4に� ��すように、長細い環状に形成されており、� ��側弁体部53の右シール面53aと左側弁体部56の 左シール面56aとの連続する段違い部57に対応� ��る略U字状部分13a,13aから上下両側(垂直の両� ��向)に押し開いた姿勢で、右側弁体部53の右� ��ール面53a及び左側弁体部56の左シール面56a� �装着されている。

 そして、弁体5がゲート開口部9a,9bを閉じ� ��方向(図1,3中、X1方向)にスライド空間2a内を� ��動したときに、右側弁体部53の右シール面53 a及び左側弁体部56の左シール面56aに装着され ているシール部材13が、弁箱2の右シール座面 11及び左シール座面16にそれぞれ圧接され、� �れにより、弁箱2のゲート開口部9a,9b間の流� �が遮断されるようになっている。

 なお、弁体5には、本体部51の上面(垂直方 向上面)と下面(垂直方向下面)にそれぞれ自由 回転可能に複数のローラ58,58,・・・が取り付 けられており、このローラ58,58,・・・が、図 3に示すように、弁箱2のスライド空間2aの上� �の内壁面(レール面)2a2,2a2にそれぞれ接触し� �状態で転動することで、弁体5がスライド空� ��2a内をスムーズに移動するようになってい� �。

 上記構成において、本実施例1では、右側 弁体部53の右シール面53aと弁箱2の右シール座 面11との間に、シール部材13の圧潰量を規制� �るスペーサ部材21を取り付けている。すなわ ち、シール部材13の潰し量を、従来のように� ��アシリンダの圧力で制御するのではなく、� ��のスペーサ部材21の厚み幅で規制するよう� �している。これにより、製造過程で発生す� �熱の影響によって弁体5が伸縮や変形等し、� ��の結果、シール部材13のシール座面11,16への 当たりに偏りが生じたとしても、シール部材 13はスペーサ部材21の厚み以上には押し潰さ� �ないので、シール部材13の先に当たる部分が 必要以上に押し潰されてしまうといった事態 は発生しない。そのため、仮にこの偏り部分 に剪断応力が発生したとしても、その大きさ はエアシリンダの圧力によって制御する従来 の場合に比べてはるかに小さく、シール部材 13を転動させるほどの力とはならないので、� ��ール部材13が破損することもなく、ゲート� �ルブとしての遮断性能も低下することがな� �。

 本実施例1では、スペーサ部材21を弁体5の 外周面である右側弁体部53の右シール面53aに� ��り付けている。スペーサ部材13を右シール� �面11に取り付けることも可能であるが、熱の 影響による弁体5と弁箱2の温度の上がり方が� ��妙に異なるため、数ミリ単位で両者がずれ� ��ので、両者の位置関係をしっかり出すため� ��は、動く方である(弁箱2に対して挿脱可能� �移動体である)弁体5にスペーサ部材21を取り� ��けておくのがよい。

 この場合、スペーサ部材21は、右側弁体� �53の右シール面53aのうち、ゲート開口部を閉 じる方向の先端側の垂直面53a1に取り付ける� �がよい。熱の影響による弁体5の伸縮等は、� ��アシリンダのシリンダロッド6が取り付けら れている弁体5の基端側(図1では図中左側)よ� �弁体5の先端側(図1では図中右側)により顕著� ��現れる。すなわち、エアシリンダのシリン� ��ロッド6が連結される弁体5の基端側を基準� �した場合、この基端側から最も離れた先端� �がより前方に延びた状態となる。従って、� �も変化のある先端側、すなわち右側弁体部53 の右シール面53aの垂直面53a1にスペーサ部材21 を取り付けることで、弁体5の横方向(水平方� ��)のぶれや熱による変形等に十分に対応する ことが可能となる。すなわち、言い換えると 、スペーサ部材21は、右側弁体部53の右シー� �面53a及び左側弁体部56の左シール面56aのうち 、弁体5の温度が最も上昇する部分に取り付� �られている。温度が最も上昇する部分が最� �熱変形が生じる部分であるので、この部分� �スペーサ部材13を取り付けることにより、温 度変化に十分対応することが可能となる。

 また、スペーサ部材21は、右シール座面11 に面接触するように設けられている。すなわ ち、スペーサ部材21は直方体形状に形成され� ��おり、本実施例1では、この直方体形状のス ペーサ部材21を、所定の間隔を存して3個取り 付けている。ただし、取り付ける個数につい ては設計的事項であり、任意に決定すればよ い。例えば、スペーサ部材21と右シール座面1 1との接触が点接触であった場合には、その� �分のスペーサ部材21が削れてパーティクルが 発生する可能性がある。従って、面接触にし ておくことで、このようなパーティクルの発 生を防止(低減)することが可能となる。

 なお、本実施例1では、スペーサ部材21は� ��熱膨張の少ない材質の材料で形成されてい� ��。スペーサ部材21はシール部材13の潰し量を 規制するものであるから、当然のことながら 熱変形の少ないものがよい。ここで、スペー サ部材21の材料としては、樹脂材料と金属材� ��とがある。樹脂材料としては、テフロン(登 録商標)、ダイフロン、ピークなどの使用が� �能である。また、金属材料としては、ステ� �レス、アルミ合金、チタン合金などの使用� �可能である。

 また、上記実施例1では、スペーサ部材21� ��、右側弁体部53の右シール面53aのうち、ゲ� �ト開口部9a,9bを閉じる方向の先端側の垂直面 53a1のみに取り付けているが、右シール面53a� �他の面(垂直方向に対して傾斜している面)や 、左側弁体部56の左シール面56aの適所にも、� ��要に応じて取り付けてもよい。

 上記構成のゲートバルブ1は、真空雰囲気 で搬送物の処理を行う真空装置の第1処理室� �第2処理室との間を開閉するゲートバルブと� ��て用いることできる。これにより、真空装� ��自体の耐久性や、第1処理室と第2処理室と� �遮断性能を向上させることができる。

 図5は、本実施例1のゲートバルブ1(図5で� �符号1A,1B)を搭載した真空装置の概略構成図� �あり、ここではプラズマCVD装置80を例示して いる。すなわち、このプラズマCVD装置80は、� ��熱室81、成膜室82、及び取り出し室83を有し� ��加熱室81と成膜室82との間、及び成膜室82と� ��り出し室83との間にそれぞれ本実施例1のゲ� ��トバルブ1A,1Bが配置されている。搬送物で� �る基板は各室内を矢印Y1方向に移動する。

 まず最初に、ガラスなどからなる透明基� ��上に透明導電膜が形成されて、基板が構成� ��れる。次に、この基板をプラズマCVD装置80� �搬入する。プラズマCVD装置80に搬入した基板 は、加熱室81で成膜温度に一定時間加熱保持� ��れる。その後、加熱室81と成膜室82との間と の間のゲートバルブ1Aを開き、基板を加熱室8 1から成膜室82に搬入した後、ゲートバルブ1A� ��閉める。そして後、説膜室82にてプラズマCV D法によりpin成膜を行う。成膜後、成膜室82と 取り出し室83との間のゲートバルブ1Bを開き� �基板を取り出し室83に搬出した後、ゲートバ ルブ1Bを閉める。この後、取り出し室83にて� �剥離などの異常の有無の確認を行う。

 このような構成のプラズマCVD装置80によ� �ば、ゲートバルブ1A,1Bは、製造過程において 発生する熱によって加熱されることになる。 そのため、この熱の影響によって弁体5が伸� �や変形等し、その結果、シール部材13のシー ル座面11,16への当たりに偏りが生じる可能性� ��ある。すなわち、ゲートバルブ1A,1B自体の� �年変化に加え、熱による変形等によっても� �たりに偏りが生じる可能性があるが、本実� �例1のゲートバルブ1A,1Bによれば、シール部� �13はスペーサ部材21の厚み以上には押し潰さ� ��ないので、シール部材13の先に当たる部分� �必要以上に押し潰されてしまうといった事� �は発生しない。従って、シール部材13が破損 することもなく、ゲートバルブ1A,1Bの遮断性� ��も低下しないので、耐久性に優れたプラズ� ��CVD装置80を実現することができるものであ� �。なお、本発明でいう第1処理室は、ゲート� ��ルブ1Aから見た場合には加熱室81となり、本 発明でいう第2処理室は成膜室82となる。また 、ゲートバルブ1Bから見た場合には、本発明� ��いう第1処理室が成膜室82となり、本発明で� ��う第2処理室が取り出し室83となる。

 なお、本実施例1では、真空装置としてプ ラズマCVD装置80を例示しているが、ドライエ� ��チング装置やスパッタリング装置などのガ� ��導入を伴うプラズマ処理装置に本発明のゲ� ��トバルブを適用した場合においても同様の� ��果を期待することができる。

 次に、本実施例2にかかるゲートバルブを 図面を用いて説明する。また、本実施例2に� �かるゲートバルブは、上記した実施例1と同� ��に真空装置に用いることが好ましい。なお� ��本実施例2にかかるゲートバルブは、実施例 1に対して、ゲートバルブの形状が異なる。� �こで、本実施例2では、実施例1と異なる構成 について説明し、同一の構成についての説明 を省略する。また、本実施例2では、実施例1� ��同一構成による作用効果及び変形例は、実� ��例1と同様の作用効果及び変形例を有する。

 図6、図7は、本実施例2に係るゲートバル� ��1の構造を示し、図6は、弁箱の一部を切り� �いた状態のゲートバルブ1の分解斜視図であ� ��、図7は、図6のV-V線断面図である。

 本実施例2にかかるゲートバルブ1では、� �記した実施例1にかかるゲートバルブ1の構成 に、さらに弁箱2のシール座面16の傾斜面11a、 16a(下記参照)の下端部(垂直方向下端部)に、� �塵を収納するための収納凹部31(下記参照)が� ��けられている。

 本実施例2では、弁箱2の内壁面に形成さ� �た右シール座面11と左シール座面16は、図6に 示すゲートバルブ1を正面側から見たとき、� �右対称の台形形状に形成されており、全体� �して六角形状に形成されている。また、右� �ール座面11の下側傾斜面11aと、左シール座面 16の下側傾斜面16aとで、V字形状の傾斜面が形 成されている。このうち、左側傾斜面16aは下 向きの傾斜面(シール座面16)となっており、� �側傾斜面11aが上向きの傾斜面(シール座面16)� ��なっている。すなわち、粉塵の落下が遮断� ��能に影響するのは、傾斜面が上向きの右側� ��斜面11aだけであり、上方を向いているシー� ��座面の幅方向の領域が、上記従来のゲート� ��ルブに比べて約半分となっている。

 このV字状の右側傾斜面11aと左側傾斜面16a の交差部分である段違い部15に沿って、その� ��部(垂直方向下部)に、粉塵等を収納するた� �の収納凹部31を形成している。この収納凹部 31は、図6,7に示すように、ポケット形状とな� ��ており、スライド空間2aの下内壁面(レール� ��)2a2に、粉塵等を収納するための開口部31aが 形成されている。このように、段違い部15に� ��ってその下部に、収納凹部31を形成するこ� �で、右側傾斜面11a上に落下し、この上を滑� �落ちてきた粉塵等が、段違い部15に沿って自 然落下し、開口部31aから収納凹部31内に落下� ��ることになる。

 なお、図6,7に示すように収納凹部31の底� �部分に開閉可能な蓋体31bを設け、この蓋体31 bを開放することで、収納凹部31内に溜まった 粉塵等を、弁箱2の底面側から取り出せるよ� �にしている。具体的には、蓋体31bの構造と� �て、ねじ構造があげられる。このねじ構造� �よれば、蓋体31bを円柱形状に形成し、その� �周部に雄ねじを形成する一方、収納凹部31の 底面に円筒形状の穴31cを形成し、この穴31cの 内周面に雌ねじを形成すればよい。ただし、 蓋体31bの開閉構造は、このようなねじ構造に 限るものではない。

 また、本実施例2によれば、弁体5にスペ� �サ部材21が設けられているので、弁体5の右� �ール面53aが弁箱2の右シール座面11に直接当� �って削り屑が発生することを抑制できる。� �らに、削り屑による粉塵が発生した場合で� �、この粉塵は、右側傾斜面11a上を滑り落ち� �段違い部15に沿って自然落下し、開口部31aか ら収納凹部31内に落下することになる。すな� ��ち、粉塵の発生抑制と、発生した粉塵の回� ��といった2段構成とすることで、粉塵に対し てより強い構造のゲートバルブを実現するこ とができるものである。

  また、本発明は、その精神または主要� �特徴から逸脱することなく、他のいろいろ� �形で実施することができる。そのため、上� �の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎ� �、限定的に解釈してはならない。本発明の� �囲は特許請求の範囲によって示すものであ� �て、明細書本文には、なんら拘束されない� �さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属す� �変形や変更は、全て本発明の範囲内のもの� �ある。

 また、この出願は、2008年4月22日に日本で 出願された特願2008-111501号、および特願2008-11 1502号に基づく優先権を請求する。これに言� �することにより、その全ての内容は本出願� �組み込まれるものである。