Title:
A source of a metal ion
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6178526
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】本発明は、固体を蒸発させる蒸発源に電子ビーム照射式を用いた場合には高密度イオンを小型のイオン源では効率的に生成することができない課題を解決し、高効率に高密度イオンを生成する金属イオン源を提供することを目的とする。また、第二の目的として、金属イオン源の小型軽量化を図り、イオン引き出し方向の選択を容易にする金属イオン源を提供することを目的とする。【解決手段】電離が行われるか否かが電子ビームのエネルギーの大きさに依存するという物理的特性を利用し、同一室内で、電離効率が低い高速の電子ビームが原料の蒸発に、放電により発生させた電離効率が高い低速電子が電離作用に、独立かつ同時に関与することが可能な蒸発兼プラズマ室を備えたイオン源の構造とした。【選択図】 図１
Inventors:
Nunogaki Masanobu
Application Number:
JP2017005495A
Publication Date:
August 09, 2017
Filing Date:
January 17, 2017
Export Citation:
Assignee:
AEON Lab Co., Ltd.
International Classes:
H01J27/22; H01J27/04; H01J27/08; H01J27/16; H01J27/20; H01J37/08
Domestic Patent References:
| JPH04306540A | 1992-10-29 | |||
| JP2004273407A | 2004-09-30 | |||
| JPH04236774A | 1992-08-25 |
Foreign References:
| WO2006115172A1 | 2006-11-02 | |||
| US3479545A | 1969-11-18 |
Attorney, Agent or Firm:
Masanori Homma