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Title:
イオン源バッフル、イオンエッチング装置及びその使用方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023526406
Kind Code:
A
Abstract:
イオン源バッフル(1)、イオンエッチング装置及びその使用方法であって、該イオン源バッフル(1)は中空構造のバッフル本体(11)を含み、バッフル本体(11)の内壁には対称に設けられるバッフル(12)が固定されており、バッフル(12)はバッフル本体(11)の中心に向かって延在しており、バッフル本体(11)の内壁からバッフル本体(11)中心への方向において、バッフル(12)による遮断領域は小さくなり、イオンエッチング装置は放電室(2)と、反応室(3)と、イオン源バッフル(1)と、を含み、イオン源バッフル(1)は放電室(2)の内壁に係着され、プラズマはイオン源バッフル(1)及びイオン源Gridモジュール(4)を順次通過する。前記イオンエッチング装置にイオン源バッフル(1)が増設されることによって、プラズマがイオン源バッフル(1)で遮断されると、放電室のエッジ領域から放電室の中心領域まで、プラズマの数が徐々に増加し、これによって、スクリーングリッド(41)の外孔が内孔よりも大きいという構造の設計に対して補償を行い、プラズマがスクリーングリッド(41)を透過してなるプラズマビームの均一性が確保される。【選択図】図4(b)

Inventors:
Zhang Yao Yao
Hu winter and winter
Liu Ocean
Zhang Jun
Lee Na
How true
Zhu Harutomo
Huh Kaidong
Application Number:
JP2022570370A
Publication Date:
June 21, 2023
Filing Date:
May 19, 2021
Export Citation:
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Assignee:
JIANGSU LEUVEN INSTRUMENTS CO. LTD
International Classes:
H01L21/3065; H01J27/16; H01J37/08; H05H1/46
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Cosmos International Patent and Trademark Office