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Title:
真空プロセスチャンバのための気体流入弁
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023502660
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、真空プロセスチャンバ内へのプロセスガスの制御された流入のための気体流入弁(1)であって、気体流入弁が、-気体入口(21)、気体出口(22)および内部容積(23)を備えた気体通流ユニット(2)であって、内部容積(23)が、気体入口および気体出口への自由なアクセスを有しており、気体通流ユニットが、内部容積内にシール面(24)を有している、気体通流ユニット(2)と、-調節ユニット(31)を備えた調節装置(3)であって、調節ユニットが、内部容積内に突入し、気体通流ユニットの外側で調節装置内において調節可能に支承されており、調節ユニットが、内部容積内に配置されているディスク(32)を有しており、ディスク(32)が、調節装置(3)により閉鎖位置へと移動可能であり、閉鎖位置においてディスクがシール面上に載置され、これにより気体通流を阻止し、ディスクが、調節装置により開放位置へと移動可能であり、開放位置においてディスクがシール面から離間しており、これにより気体通流を可能にする、調節装置(3)と、-2つのフレキシブルなシーリングエレメント(41,42)であって、気体通流ユニットと、調節ユニットとにそれぞれ取り付けられていて、これにより内部容積を密閉する2つのフレキシブルなシーリングエレメント(41,42)と、-位置特定ユニット(5)であって、調節装置に、または調節装置内に配置されていて、調節ユニットの、ディスクに対して固定的な位置関係を有する部分の位置を特定するように調整されている、位置特定ユニットと、を有している、気体流入弁(1)に関する。

Inventors:
Florian Ehane
Martin Netzer
hanspeter flener
Application Number:
JP2022529050A
Publication Date:
January 25, 2023
Filing Date:
November 18, 2020
Export Citation:
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Assignee:
Bat holding arg
International Classes:
F16K51/02
Attorney, Agent or Firm:
Einzel Felix-Reinhard
Taku Morita
Junichi Maekawa
Hideo Nagashima
Ueshima class