Title:
清掃装置及びそれを備える弁装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6895025
Kind Code:
B1
Abstract:
清掃装置（４）は、流路中の対象箇所の異物を除去する清掃機構（５）と、清掃機構（５）の動作を判定する判定装置（６）とを備え、清掃機構（５）は、流路を流通する流体に晒される位置に配置され、温度変化によって変形する変形部材（５１）と、変形部材（５１）の変形によって対象箇所に対して進出及び後退して、対象箇所の異物を除去する清掃部材（５２）とを有し、判定装置（６）は、清掃部材（５２）に連動して変位する磁石（６１）と、磁石（６１）による磁界を検出する磁気センサ（６２）と、磁気センサ（６２）の検出結果に基づいて清掃機構（５）の動作を判定する判定部（６４）とを有する。
Inventors:
Kazunari Hagiwara
Application Number:
JP2020554559A
Publication Date:
June 30, 2021
Filing Date:
June 11, 2020
Export Citation:
Assignee:
TLV Co., Ltd.
International Classes:
F16K51/00; F16T1/22
Domestic Patent References:
| JP2017190836A | 2017-10-19 | |||
| JP2019002491A | 2019-01-10 |
Attorney, Agent or Firm:
Kenzo Terazono
Daisuke Kawabe
Daisuke Kawabe